Lisätarvikkeet

ZEISS A-Plan 63x/0.8 Pol -objektiivi on plan-akromaattinen linssi, joka on suunniteltu yksityiskohtaiseen mikroskooppiseen havainnointiin, mukaan lukien polarisaatiosovellukset. Se tarjoaa 63-kertaisen suurennoksen ja numeerisen apertuurin 0,80, tuottaen teräviä, korkean kontrastin kuvia erinomaisella resoluutiolla. Tämä äärettömyyskorjattu objektiivi sisältää tasokenttäisen (plan) rakenteen, joka varmistaa tasalaatuisen kuvanlaadun koko näkökentän alueella.

ZEISS A-Plan 63x/0.8 -objektiivi on plan-akromaattinen linssi, joka on kehitetty korkean resoluution mikroskooppiseen havainnointiin. Se tarjoaa 63-kertaisen suurennoksen ja numeerisen apertuuriarvon 0,80, tuottaen teräviä, yksityiskohtaisia kuvia erinomaisella kontrastilla. Tämä äärettömyyskorjattu objektiivi sisältää tasokenttäisen (plan) rakenteen, joka varmistaa tasalaatuisen kuvanlaadun koko näkökentän alueella.

ZEISS Antiflex -suojus on suunniteltu erityisesti EC Epiplan-Neofluar 1.25x/0.03 -objektiivia varten. Se auttaa vähentämään ei-toivottuja heijastuksia ja hajavaloa, parantaen kuvan kontrastia ja optista suorituskykyä teknisissä mikroskopiasovelluksissa.

ZEISS Antiflex -suojus on suunniteltu käytettäväksi EC Epiplan-Neofluar 2.5x/0.06 -objektiivin kanssa. Se minimoi heijastukset ja hajavalon, mikä parantaa kuvan kontrastia ja yleistä optista suorituskykyä teknisissä mikroskopiasovelluksissa.

ZEISS EC Epiplan 100x/0.85 HD -objektiivi on korkearesoluutioinen linssi, joka on kehitetty vaativiin teknisiin mikroskopiasovelluksiin. Se tarjoaa 100-kertaisen suurennoksen ja numeerisen apertuuriarvon 0,85, mikä takaa terävän, korkean kontrastin kuvanlaadun ja erinomaisen yksityiskohtien toiston. Tämä äärettömyyskorjattu objektiivi sisältää puoliplanaakromaatin rakenteen, joka parantaa tasaisuutta ja värikorjausta näkökentän alueella.

ZEISS EC Epiplan 10x/0.25 HD -objektiivi on korkearesoluutioinen linssi, joka on suunniteltu tekniseen ja materiaalimikroskopiaan. Se tarjoaa 10x suurennoksen ja numeerisen apertuuriarvon 0,25, tuottaen teräviä, korkean kontrastin kuvia luotettavalla yksityiskohtaisuudella. Tämä äärettömyyskorjattu objektiivi sisältää puoliplanaakromaattisen rakenteen, joka parantaa kentän tasaisuutta ja värikorjausta.

ZEISS EC Epiplan 10x/0.25 M27 -objektiivi on parannetun kontrastin linssi, joka on kehitetty teknisiin mikroskopiasovelluksiin. Se tarjoaa 10-kertaisen suurennoksen, jonka numeerinen apertuuri on 0,25, ja siinä on pitkä 11,0 mm:n työskentelyetäisyys, mikä tekee siitä erityisen sopivan materiaalitestaukseen ja tarkastustehtäviin. EC Epiplan -objektiivit ovat yleiskäyttöisiä linssejä, jotka on suunniteltu kirkas- ja polarisaatiokenttä- sekä differentiaalisen interferenssikontrastin (DIC) tekniikoihin.

ZEISS EC Epiplan 10x/0.25 Pol -objektiivi on kontrastiltaan parannettu linssi, joka on suunniteltu tekniseen mikroskopiaan ja polarisaatiosovelluksiin. Se tarjoaa 10x suurennoksen ja numeerisen apertuuriarvon 0,25, tuottaen selkeitä, korkean kontrastin kuvia luotettavalla yksityiskohtaisuudella. Tämä äärettömyyskorjattu objektiivi sisältää puoliplanaakromaattisen rakenteen, joka parantaa kentän tasaisuutta ja värikorjausta.

ZEISS EC Epiplan 20x/0.4 HD -objektiivi on korkearesoluutioinen linssi, joka on kehitetty tekniseen ja materiaalimikroskopiaan. Se tarjoaa 20-kertaisen suurennoksen ja numeerisen apertuurin 0,40, tuottaen teräviä, korkean kontrastin kuvia erinomaisella yksityiskohtien toistolla. Tämä äärettömyyskorjattu objektiivi sisältää puoliplanaakromaattisen rakenteen, joka parantaa kentän tasaisuutta ja värikorjausta.

ZEISS EC Epiplan 20x/0.4 M27 -objektiivi on parannetun kontrastin linssi, joka on kehitetty teknisiin mikroskopiasovelluksiin. Se tarjoaa 20-kertaisen suurennoksen ja numeerisen apertuuriarvon 0,4 sekä 3,2 mm:n työskentelyetäisyyden, mikä mahdollistaa näytteen helpon käsittelyn ja tarkan tarkennuksen. Peitinlasikorjausta ei tarvita. EC Epiplan -objektiivit ovat yleiskäyttöisiä linssejä, jotka on suunniteltu kirkas- ja polarisaatiokenttä- sekä differentiaalisen interferenssikontrastin (DIC) tekniikoihin.

ZEISS EC Epiplan 50x/0.75 HD -objektiivi on korkearesoluutioinen linssi, joka on kehitetty tekniseen ja materiaalimikroskopiaan. Se tarjoaa 50-kertaisen suurennoksen ja numeerisen apertuuriarvon 0,75, mikä takaa terävät, korkean kontrastin kuvat erinomaisella yksityiskohtien erottelukyvyllä. Tämä äärettömyyskorjattu objektiivi sisältää puoliplana-akromaattisen rakenteen, joka parantaa kentän tasaisuutta ja värikorjausta.

ZEISS EC Epiplan 50x/0.75 M27 -objektiivi on kontrastia parantava linssi, joka on kehitetty teknisiin mikroskopiasovelluksiin. Se tarjoaa 50-kertaisen suurennoksen, numeerisen aukon 0,75 ja työskentelyetäisyyden 1,0 mm. Tämä malli ei vaadi peitinlasikorjausta ja on suunniteltu kuivakäyttöön ilman immersioöljyä. EC Epiplan -objektiivit ovat yleiskäyttöisiä linssejä, jotka soveltuvat kirkas- ja polarisaatiokenttämenetelmiin sekä differentiaaliseen interferenssikontrastiin (DIC).

ZEISS EC Epiplan 50x/0.75 Pol -objektiivi on kontrastiltaan parannettu linssi, joka on kehitetty tekniseen mikroskopiaan ja polarisaatiosovelluksiin. Se tarjoaa 50-kertaisen suurennoksen ja numeerisen apertuuriarvon 0,75, tuottaen teräviä, korkean kontrastin kuvia erinomaisella yksityiskohtaisuudella. Tämä äärettömyyskorjattu objektiivi sisältää puoliplanaakromaattisen rakenteen, joka parantaa kentän tasaisuutta ja värikorjausta.

ZEISS EC Epiplan 5x/0.13 HD -objektiivi on korkean resoluution linssi, joka on kehitetty tekniseen ja materiaalimikroskopiaan. Se tarjoaa 5x suurennuksen ja numeerisen apertuurin 0,13, tuottaen selkeitä, korkean kontrastin kuvia luotettavalla yksityiskohtaisuudella. Tämä äärettömyyskorjattu objektiivi sisältää puoliplanaakromaattisen rakenteen, joka parantaa kentän tasaisuutta ja värikorjausta.

ZEISS EC Epiplan 5x/0.13 M27 -objektiivi on parannetun kontrastin linssi, joka on suunniteltu teknisiin mikroskopiasovelluksiin. Se tarjoaa 5x suurennoksen ja numeerisen apertuuriarvon 0,13 sekä pitkän 11,8 mm:n työskentelyetäisyyden, mikä mahdollistaa näytteiden helpon käsittelyn ja tarkan tarkennuksen. Peitinlasikorjausta ei tarvita. EC Epiplan -objektiivit ovat yleiskäyttöisiä linssejä, jotka soveltuvat kirkas- ja polarisaatiokenttämenetelmiin sekä differentiaaliseen interferenssikontrastiin (DIC).

ZEISS-objektiivi EC Epiplan-Neofluar 2.5x/0.06 on tarkkuusoptinen komponentti, joka on suunniteltu käytettäväksi edistyneissä mikroskopiasovelluksissa. Se on suunniteltu tarjoamaan luotettavaa kuvanlaatua ja tarkkaa suurennosta, mikä tekee siitä sopivan opetuskäyttöön ja yliopistoympäristöihin.

ZEISS-objektiivi EC Epiplan-Neofluar POL 5x/0.13 on korkealaatuinen mikroskooppiobjektiivi, joka on suunniteltu tarkkaan optiseen suorituskykyyn opetuksellisissa ja akateemisissa ympäristöissä. Se on varustettu äärettömyyskorjatuilla optiikoilla, jotka takaavat tarkan kuvan toiston ja yhteensopivuuden nykyaikaisten mikroskooppijärjestelmien kanssa.

ZEISS EC Epiplan Achro 100x/0.8 kuiva mikroskooppiobjektiivi on suunniteltu korkean suurennoksen materiaalien ja pintojen analysointiin. Se tarjoaa tarkan kuvan toiston äärettömyyskorjatuilla optiikoilla, mikä tekee siitä sopivan edistyneisiin laboratorio- ja akateemisiin sovelluksiin.

ZEISS EC Epiplan Achro 100x/0.8 kuiva mikroskooppiobjektiivi on suunniteltu korkean suurennoksen materiaalien ja pintojen analysointiin. Se tarjoaa tarkan kuvan toiston äärettömyyskorjatuilla optiikoilla, mikä tekee siitä sopivan edistyneisiin laboratorio- ja akateemisiin sovelluksiin.

ZEISS-objektiivi EC Plan-Neofluar 10x/0.3 on tarkkuusmikroskooppiobjektiivi, joka on suunniteltu tuottamaan selkeitä, tasakenttäisiä kuvia opetukseen ja akateemisiin laboratorioihin. Sen plan-optinen korjaus takaa korkean kuvanlaadun koko näkökentässä, mikä tekee siitä sopivan yksityiskohtaiseen näytteiden tarkasteluun.

ZEISS-objektiivi EC Plan-Neofluar 2.5x/0.085 on korkealaatuinen mikroskooppiobjektiivi, joka on suunniteltu laajakenttäiseen tarkkailuun ja tarkkaan kuvantoistoon. Plan-korjauksen ansiosta se tuottaa tasaisen ja terävän kuvan koko näkökentän alueella.

ZEISS EC Plan-Neofluar 5x/0.16 -mikroskooppiobjektiivi on suunniteltu tuottamaan selkeää, tasakenttäistä kuvaa laboratorio- ja opetuskäyttöön. Sen plan-optinen korjaus varmistaa terävän kuvanlaadun koko näkökentässä, mikä tekee siitä sopivan yksityiskohtaiseen näytteiden tarkasteluun.

ZEISS-objektiivi EC Plan-Neofluar Ph1 10x/0.3 on suorituskykyinen mikroskooppiobjektiivi, joka on suunniteltu faasikontrastisovelluksiin laboratorio- ja akateemisiin ympäristöihin. Plan-korjauksen ansiosta se tuottaa teräviä ja tasaisia kuvia koko näkökentän alueella.

ZEISS EC Plan-Neofluar POL 10x/0.3 Pol -mikroskooppiobjektiivi on suunniteltu erityisesti polarisoidun valon mikroskopiaan laboratorio- ja akateemisiin ympäristöihin. Sen plan-optinen korjaus takaa tasaisen ja terävän kuvan koko näkökentän alueella, mikä tukee tarkkaa näytteiden analysointia.