Popis proizvoda po brandu Zeiss

ZEISS A-Plan 40x/0.65 D 0 objektiv je plan-akromatska leća dizajnirana za detaljna mikroskopska promatranja. Pruža povećanje od 40x s numeričkim otvorom od 0,65, omogućujući oštre, visokokontrastne slike s pouzdanom jasnoćom. Ovaj beskonačno korigirani objektiv ima plan (ravno polje) dizajn kako bi osigurao dosljednu kvalitetu slike preko cijelog vidnog polja.

ZEISS A-Plan 40x/0.65 M27 objektiv je visokokontrastna plan-ahromatska leća namijenjena za rutinsku i istraživačku mikroskopiju. Pruža povećanje od 40x s numeričkom aperturom od 0,65 i podržava korekciju pokrovnog stakalca od 0 do 1,00 mm. Radna udaljenost iznosi 0,45 mm. A-Plan objektivi nude izvrsnu alternativu Achroplan lećama, omogućujući oštre, visokokontrastne slike na polju promjera do 23 mm.

ZEISS A-Plan 40x/0.65 Ph2 objektiv je plan-ahromatska leća dizajnirana za precizno mikroskopsko promatranje s mogućnošću faznog kontrasta 2. Pruža povećanje od 40x i numerički otvor od 0,65, omogućujući oštre, visokokontrastne slike s poboljšanom vidljivošću prozirnih uzoraka. Ovaj objektiv s beskonačnom korekcijom ima plan (ravno polje) dizajn kako bi se osigurala dosljedna kvaliteta slike preko cijelog vidnog polja.

ZEISS A-Plan 40x/0.65 Pol objektiv je plan-akromatska leća dizajnirana za detaljna mikroskopska promatranja, uključujući primjene s polarizacijom. Omogućuje povećanje od 40x s numeričkom aperturom od 0,65, osiguravajući oštru sliku visokog kontrasta. Ovaj objektiv s beskonačnom korekcijom ima plan dizajn ravnog polja za ujednačenu oštrinu preko cijelog vidnog polja.

ZEISS A-Plan 5x/0.12 M27 objektiv je plan-akromatska leća namijenjena za rutinsku i istraživačku mikroskopiju. Omogućuje povećanje od 5x s numeričkom aperturom od 0,12 i podržava korekciju pokrovnog stakalca od 0 do 1,00 mm. Radna udaljenost iznosi 10,1 mm, što omogućuje udobno rukovanje preparatima i jednostavno fokusiranje. A-Plan objektivi nude pouzdanu alternativu Achroplan lećama, pružajući slike visokog kontrasta na polju promjera do 23 mm.

ZEISS A-Plan 5x/0.12 Pol objektiv je plan-akromatska leća namijenjena za mikroskopiju s malim povećanjem, uključujući primjene u polarizaciji. Pruža povećanje od 5x s numeričkom aperturom od 0,12, osiguravajući jasnu i ravnomjerno raspoređenu kvalitetu slike preko cijelog vidnog polja. Ovaj objektiv s beskonačnom korekcijom ima plan dizajn ravnog polja za dosljednu oštrinu.

ZEISS A-Plan 63x/0.8 Pol objektiv je plan-akromatska leća dizajnirana za detaljna mikroskopska promatranja, uključujući primjene s polarizacijom. Pruža povećanje od 63x s numeričkom aperturom od 0,80, omogućujući oštre slike visokog kontrasta s izvrsnom rezolucijom. Ovaj objektiv s beskonačnom korekcijom ima plan (ravno polje) dizajn kako bi se osigurala dosljedna kvaliteta slike preko cijelog vidnog polja.

ZEISS A-Plan 63x/0.8 objektiv je plan-akromatska leća razvijena za mikroskopska promatranja visoke rezolucije. Pruža povećanje od 63x s numeričkom aperturom od 0,80, omogućujući oštre, detaljne slike s izvrsnim kontrastom. Ovaj beskonačno korigirani objektiv ima plan (ravno polje) dizajn kako bi osigurao ujednačenu kvalitetu slike preko cijelog vidnog polja.

ZEISS Antiflex kapica posebno je dizajnirana za EC Epiplan-Neofluar 1.25x/0.03 objektiv. Pomaže u smanjenju neželjenih refleksija i raspršene svjetlosti, poboljšavajući kontrast slike i ukupne optičke performanse tijekom tehničkih mikroskopskih primjena.

ZEISS Antiflex kapica dizajnirana je za upotrebu s objektivom EC Epiplan-Neofluar 2.5x/0.06. Smanjuje refleksije i raspršenu svjetlost, pomažući poboljšanju kontrasta slike i ukupne optičke izvedbe u tehničkim mikroskopskim primjenama.

ZEISS EC Epiplan 100x/0.85 HD objektiv je visokodefinirani objektiv razvijen za zahtjevne tehničke primjene u mikroskopiji. Omogućuje povećanje od 100x s numeričkom aperturom od 0,85, osiguravajući oštru sliku visoke kontrastnosti i izvrsnu reprodukciju detalja. Ovaj objektiv s beskonačnom korekcijom ima poluplanakromatski dizajn za poboljšanu ravnost i korekciju boja kroz cijelo vidno polje.

ZEISS EC Epiplan 10x/0.25 HD objektiv je visokodefinirani objektiv namijenjen za tehničku i materijalnu mikroskopiju. Pruža 10x povećanje s numeričkom aperturom od 0,25, omogućujući oštre, visokokontrastne slike s pouzdanim detaljima. Ovaj objektiv s beskonačnom korekcijom ima poluplanakromatski dizajn za poboljšanu ravnost polja i korekciju boja.

ZEISS EC Epiplan 10x/0.25 M27 objektiv je leća s poboljšanim kontrastom razvijena za tehničke primjene u mikroskopiji. Pruža povećanje od 10x s numeričkom aperturom od 0,25 i nudi dugu radnu udaljenost od 11,0 mm, što ga čini posebno pogodnim za ispitivanje i testiranje materijala. EC Epiplan objektivi su univerzalne leće dizajnirane za svjetlosno polje, diferencijalni interferencijski kontrast (DIC) i polarizacijske tehnike.

ZEISS EC Epiplan 10x/0.25 Pol objektiv je leća s poboljšanim kontrastom, namijenjena za tehničku mikroskopiju i primjene u polarizaciji. Pruža povećanje od 10x s numeričkom aperturom od 0,25, omogućujući jasne slike visokog kontrasta s pouzdanim detaljima. Ovaj objektiv s beskonačnom korekcijom ima polu-planakromatski dizajn za poboljšanu ravnost polja i korekciju boja.

ZEISS EC Epiplan 20x/0.4 HD objektiv je visokodefinirani objektiv razvijen za tehničku i materijalnu mikroskopiju. Pruža povećanje od 20x s numeričkom aperturom od 0,40, omogućujući oštre slike visokog kontrasta s izvrsnom reprodukcijom detalja. Ovaj na beskonačnost korigirani objektiv ima polu-planakromatski dizajn za poboljšanu ravnost vidnog polja i korekciju boja.

ZEISS EC Epiplan 20x/0.4 M27 objektiv je leća s poboljšanim kontrastom razvijena za tehničke primjene u mikroskopiji. Pruža povećanje od 20x s numeričkom aperturom od 0,4 i ima radnu udaljenost od 3,2 mm, što omogućuje jednostavan pristup uzorku i precizno fokusiranje. Korekcija pokrovnog stakalca nije potrebna. EC Epiplan objektivi su univerzalne leće namijenjene za svjetlosno polje, diferencijalni interferencijski kontrast (DIC) i polarizacijske tehnike.

ZEISS EC Epiplan 50x/0.75 HD objektiv je visokodefinirani objektiv razvijen za tehničku i materijalnu mikroskopiju. Omogućuje povećanje od 50x s numeričkom aperturom od 0,75, osiguravajući oštre slike visokog kontrasta s izvrsnom razlučivošću detalja. Ovaj na beskonačnost korigirani objektiv ima poluplanakromatski dizajn za poboljšanu ravnost polja i korekciju boja.

ZEISS EC Epiplan 50x/0.75 M27 objektiv je leća s poboljšanim kontrastom razvijena za tehničke mikroskopske primjene. Pruža povećanje od 50x s numeričkom aperturom od 0,75 i radnom udaljenošću od 1,0 mm. Ovaj model ne zahtijeva korekciju pokrovnog stakalca i dizajniran je za suhu upotrebu bez imerzijske ulja. EC Epiplan objektivi su univerzalne leće pogodne za svjetlosno polje, diferencijalni interferencijski kontrast (DIC) i polarizacijske tehnike.

ZEISS EC Epiplan 50x/0.75 Pol objektiv je leća s poboljšanim kontrastom razvijena za tehničku mikroskopiju i primjene u polarizaciji. Omogućuje povećanje od 50x s numeričkom aperturom od 0,75, pružajući oštre slike visokog kontrasta s izvrsnim detaljima. Ovaj na beskonačnost korigirani objektiv ima polu-planakromatski dizajn za poboljšanu ravnost polja i korekciju boja.

ZEISS EC Epiplan 5x/0.13 HD objektiv je visokodefinirani objektiv razvijen za tehničku i materijalnu mikroskopiju. Pruža povećanje od 5x s numeričkom aperturom od 0,13, omogućujući jasne, visokokontrastne slike s pouzdanim detaljima. Ovaj objektiv s beskonačnom korekcijom ima poluplanakromatski dizajn za poboljšanu ravnost polja i korekciju boja.

ZEISS EC Epiplan 5x/0.13 M27 objektiv je leća s poboljšanim kontrastom namijenjena tehničkim mikroskopskim primjenama. Omogućuje povećanje od 5x s numeričkom aperturom od 0,13 i ima dugu radnu udaljenost od 11,8 mm, što omogućuje jednostavno rukovanje uzorcima i precizno fokusiranje. Korekcija pokrovnog stakalca nije potrebna. EC Epiplan objektivi su univerzalne leće pogodne za svjetlosno polje, diferencijalni interferencijski kontrast (DIC) i polarizacijske tehnike.

ZEISS objektiv EC Epiplan-Neofluar 2.5x/0.06 je precizna optička komponenta namijenjena za uporabu u naprednim mikroskopskim primjenama. Dizajniran je za pouzdanu kvalitetu slike i točnu povećanje, što ga čini prikladnim za obrazovna i sveučilišna okruženja.

ZEISS objektiv EC Epiplan-Neofluar POL 5x/0,13 je visokokvalitetni mikroskopski objektiv dizajniran za precizne optičke performanse u obrazovnim i akademskim okruženjima. Izrađen je s optikom korigiranom na beskonačnost kako bi se osigurala točna reprodukcija slike i kompatibilnost s modernim mikroskopskim sustavima.

ZEISS EC Epiplan Achro 100x/0.8 suhi objektiv za mikroskop dizajniran je za analizu materijala i površina pri velikim povećanjima. Omogućuje preciznu reprodukciju slike zahvaljujući optici korigiranoj na beskonačnost, što ga čini prikladnim za napredne laboratorijske i akademske primjene.