Obiettivo Fuji XF 56 mm f/1.2 R
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Obiettivo Fuji XF 56 mm f/1.2 R

Perfetto per la ritrattistica, l'XF 56mm f/1.2 R di FUJIFILM è un obiettivo a focale fissa equivalente a 85 mm che si distingue per la sua apertura massima f/1.2 estremamente veloce per isolare i soggetti e lavorare in condizioni di scarsa illuminazione. Il design ottico impiega sia elementi asferici che a bassissima dispersione, che aiutano a ridurre una varietà di aberrazioni, frange di colore e distorsione al fine di ottenere un'elevata nitidezza e chiarezza.

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Descrizione

Perfetto per la ritrattistica, l'XF 56mm f/1.2 R di FUJIFILM è un obiettivo a focale fissa equivalente a 85 mm che si distingue per la sua apertura massima f/1.2 estremamente veloce per isolare i soggetti e lavorare in condizioni di scarsa illuminazione. Il design ottico impiega sia elementi asferici che a bassissima dispersione, che aiutano a ridurre una varietà di aberrazioni, frange di colore e distorsione al fine di ottenere un'elevata nitidezza e chiarezza. Viene utilizzato anche un rivestimento Super EBC per ridurre i bagliori e le immagini fantasma per migliorare il contrasto e la precisione del colore in condizioni luminose e retroilluminate. Inoltre, questo obiettivo dispone anche di un meccanismo di messa a fuoco interno per prestazioni di messa a fuoco rapide insieme a un diaframma a sette lamelle arrotondato per produrre una piacevole qualità bokeh.

L'obiettivo con lunghezza verticale principale è progettato per le fotocamere mirrorless Fujifilm X-mount in formato APS-C e offre una lunghezza focale equivalente a 85 mm.

L'apertura massima f/1.2 particolarmente luminosa eccelle in condizioni di scarsa illuminazione e offre anche un notevole controllo sulla profondità di campo per l'utilizzo di tecniche di messa a fuoco selettiva.

Un elemento asferico a doppia faccia limita la distorsione e l'aberrazione sferica per ottenere una maggiore nitidezza e un rendering accurato.

Due elementi a bassissima dispersione riducono le frange di colore e le aberrazioni cromatiche per fornire maggiore chiarezza e precisione del colore.

Il rivestimento Super EBC è stato applicato ai singoli elementi per ridurre il riflesso dell'obiettivo e il ghosting per migliorare il contrasto e la fedeltà dei colori quando si lavora in condizioni di forte illuminazione.

Il design della messa a fuoco interna offre prestazioni di messa a fuoco automatica rapide e silenziose a vantaggio sia delle foto che delle applicazioni video.

Il diaframma arrotondato a sette lamelle contribuisce a una piacevole qualità fuori fuoco a vantaggio dell'uso della messa a fuoco selettiva e delle tecniche di profondità di campo ridotta.

Dettaglio tecnico

Lunghezza focale 56 mm (lunghezza focale equivalente a 35 mm: 85 mm)

Apertura massima f/1.2

Apertura minima f/16

Attacco obiettivo FUJIFILM X

Compatibilità formato APS-C

Angolo di visione 28,5°

Distanza minima di messa a fuoco 2,3'/70 cm

Ingrandimento massimo 0,09x

Design ottico 11 elementi in 8 gruppi

Lamelle del diaframma 7, arrotondate

Tipo di messa a fuoco Messa a fuoco automatica

Stabilizzazione dell'immagine Nessuna

Dimensioni filtro 62 mm (anteriore)

Dimensioni (diametro x lunghezza) 2,88 x 2,74"/73,2 x 69,7 mm

Peso 14,29 once / 405 g

Scheda tecnica

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