ZEISS Objektiv EC Epiplan 20x/0,4 HD wd 3.2mm (78948, 422050-9961-000)
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Unser Unternehmen ist an der Vorbereitung offizieller Genehmigungen des polnischen Ministeriums für Entwicklung und Technologie beteiligt, die es uns ermöglichen, alle Drohnen, Optiken und tragbaren Funkgeräte mit doppeltem Verwendungszweck ohne Mehrwertsteuer auf der polnischen Seite bzw. ohne Mehrwertsteuer auf der ukrainischen Seite zu exportieren.

ZEISS Objektiv EC Epiplan 20x/0,4 HD wd 3.2mm (78948, 422050-9961-000)

Das ZEISS EC Epiplan 20x/0.4 HD Objektiv ist eine hochauflösende Linse, die für die technische und Materialmikroskopie entwickelt wurde. Es bietet eine 20-fache Vergrößerung mit einer numerischen Apertur von 0,40 und liefert scharfe, kontrastreiche Bilder mit hervorragender Detailwiedergabe. Dieses unendlich korrigierte Objektiv verfügt über ein semi-planachromatisches Design für verbesserte Bildfeld-Ebenheit und Farbkorrektur.

1.509,35 $ Tax included

1227.11 Tax excluded

1.227,11 $ Net price (excl. VAT)

Karol Łoś
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Description

ZEISS Objektiv EC Epiplan 20x/0,4 HD, Arbeitsabstand 3,2 mm (78948, 422050-9961-000)

Das ZEISS EC Epiplan 20x/0,4 HD Objektiv ist eine hochauflösende Linse, die für die technische und materialwissenschaftliche Mikroskopie entwickelt wurde. Es bietet eine 20-fache Vergrößerung mit einer numerischen Apertur von 0,40 und liefert scharfe, kontrastreiche Bilder mit hervorragender Detailwiedergabe.

Dieses unendlich korrigierte Objektiv verfügt über ein semi-planachromatisches Design für verbesserte Bildfeld-Ebenheit und Farbkorrektur. Mit einem Arbeitsabstand von 3,2 mm ermöglicht es einen komfortablen Zugang zur Probe und präzises Fokussieren bei Inspektions- und Laboranwendungen.

Optische Spezifikationen

  • Objektivtyp: EC Epiplan HD

  • Vergrößerung: 20x

  • Numerische Apertur: 0,40

  • Optisches System: Unendlich korrigiert

  • Bildfeldkrümmung: Semi-planachromatisch

  • Phasenkontrast: No

  • Deckglas-Korrektur: No

  • Immersionsobjektiv: No

  • Federung: No

  • Bildmaßstab: 1:100

Mechanische Spezifikation

  • Arbeitsabstand: 3,2 mm

Anwendungsbereiche

  • Ausbildung

  • Universitäre Forschung

Zusätzliche Informationen

  • Lieferanten-Produktnummer: 422050-9961-000

Data sheet
Brand Zeiss
Reference 6NFZGWE57B
Offizielle Genehmigungen des Ministeriums für Entwicklung und Technologie

Unser Unternehmen ist an der Vorbereitung offizieller Genehmigungen des polnischen Ministeriums für Entwicklung und Technologie beteiligt, die es uns ermöglichen, alle Drohnen, Optiken und tragbaren Funkgeräte mit doppeltem Verwendungszweck ohne Mehrwertsteuer auf der polnischen Seite bzw. ohne Mehrwertsteuer auf der ukrainischen Seite zu exportieren.