tilbehør

ZEISS A-Plan 63x/0.8 Pol-objektivet er en plan-akromatisk linse designet til detaljeret mikroskopisk observation, herunder polariseringsapplikationer. Det tilbyder 63x forstørrelse med en numerisk apertur på 0,80, hvilket giver skarpe, højkontrast billeder med fremragende opløsning. Dette uendelig-korrigerede objektiv har et planfelt-design for at sikre ensartet billedkvalitet over hele synsfeltet.

ZEISS A-Plan 63x/0.8-objektivet er en plan-akromatisk linse udviklet til mikroskopisk observation med høj opløsning. Det giver 63x forstørrelse med en numerisk apertur på 0,80, hvilket leverer skarpe, detaljerede billeder med fremragende kontrast. Dette uendelig-korrigerede objektiv har et plan (fladt felt) design for at sikre ensartet billedkvalitet over hele synsfeltet.

ZEISS Antiflex-hætten er designet specifikt til EC Epiplan-Neofluar 1.25x/0.03 objektivet. Den hjælper med at reducere uønskede reflekser og strølys, hvilket forbedrer billedkontrasten og den samlede optiske ydeevne under tekniske mikroskopiapplikationer.

ZEISS Antiflex-hætten er designet til brug med EC Epiplan-Neofluar 2,5x/0,06 objektivet. Den minimerer refleksioner og strølys, hvilket hjælper med at forbedre billedkontrasten og den samlede optiske ydeevne i tekniske mikroskopiapplikationer.

ZEISS EC Epiplan 100x/0.85 HD-objektivet er en højopløsningslinse udviklet til krævende tekniske mikroskopiapplikationer. Det leverer 100x forstørrelse med en numerisk apertur på 0,85, hvilket sikrer skarp, højkontrast billedkvalitet og fremragende detaljegengivelse. Dette uendelig-korrigerede objektiv har et semi-planakromatisk design for forbedret fladhed og farvekorrigering på hele synsfeltet.

ZEISS EC Epiplan 10x/0.25 HD-objektivet er en højopløselig linse designet til teknisk og materialemikroskopi. Det giver 10x forstørrelse med en numerisk apertur på 0,25, hvilket leverer skarpe, kontrastfulde billeder med pålidelig detaljegrad. Dette uendelig-korrigerede objektiv har et semi-planakromatisk design for forbedret feltfladhed og farvekorrektion.

ZEISS EC Epiplan 10x/0.25 M27-objektivet er en kontrastforstærket linse udviklet til tekniske mikroskopiapplikationer. Det giver 10x forstørrelse med en numerisk apertur på 0,25 og tilbyder en lang arbejdsafstand på 11,0 mm, hvilket gør det særligt velegnet til materialetest og inspektionsopgaver. EC Epiplan-objektiver er universelle linser designet til lysfelt, differentiel interferenskontrast (DIC) og polarisationsmetoder.

ZEISS EC Epiplan 10x/0.25 Pol-objektivet er en kontrastforbedret linse designet til teknisk mikroskopi og polariseringsapplikationer. Det giver 10x forstørrelse med en numerisk apertur på 0,25, hvilket leverer klare, højkontrast billeder med pålidelig detaljegrad. Dette uendelig-korrigerede objektiv har et semi-planakromatisk design for forbedret feltfladhed og farvekorrektion.

ZEISS EC Epiplan 20x/0.4 HD-objektivet er en højopløselig linse udviklet til teknisk og materialemikroskopi. Det giver 20x forstørrelse med en numerisk apertur på 0,40, hvilket leverer skarpe, kontrastfulde billeder med fremragende detaljegengivelse. Dette uendelig-korrigerede objektiv har et semi-planakromatisk design for forbedret feltfladhed og farvekorrektion.

ZEISS EC Epiplan 20x/0.4 M27-objektivet er en kontrastforbedret linse udviklet til tekniske mikroskopiapplikationer. Det giver 20x forstørrelse med en numerisk apertur på 0,4 og har en arbejdsafstand på 3,2 mm, hvilket muliggør nem adgang til prøven og præcis fokusering. Dækglas-korrektion er ikke nødvendig. EC Epiplan-objektiver er universelle linser designet til lysfelt, differentiel interferenskontrast (DIC) og polarisations-teknikker.

ZEISS EC Epiplan 50x/0,75 HD-objektivet er en højopløselig linse udviklet til teknisk og materialemikroskopi. Det leverer 50x forstørrelse med en numerisk apertur på 0,75, hvilket sikrer skarpe, kontrastfyldte billeder med fremragende detaljeopløsning. Dette uendelig-korrigerede objektiv har et semi-planakromatisk design for forbedret feltfladhed og farvekorrektion.

ZEISS EC Epiplan 50x/0,75 M27-objektivet er en kontrastforstærket linse udviklet til tekniske mikroskopiapplikationer. Det tilbyder 50x forstørrelse med en numerisk apertur på 0,75 og en arbejdsafstand på 1,0 mm. Denne model kræver ikke dækglas-korrektion og er designet til tør brug uden immersionsolie. EC Epiplan-objektiver er universelle linser, der egner sig til lysfelt, differentiel interferenskontrast (DIC) og polarisations-teknikker.

ZEISS EC Epiplan 50x/0,75 Pol-objektivet er en kontrastforbedret linse udviklet til teknisk mikroskopi og polariseringsapplikationer. Det giver 50x forstørrelse med en numerisk apertur på 0,75, hvilket leverer skarpe, højkontrast billeder med fremragende detaljegrad. Dette uendelig-korrigerede objektiv har et semi-planakromatisk design for forbedret feltfladhed og farvekorrigering.

ZEISS EC Epiplan 5x/0.13 HD-objektivet er en højopløselig linse udviklet til teknisk og materialemikroskopi. Det tilbyder 5x forstørrelse med en numerisk apertur på 0,13, hvilket giver klare, kontrastfyldte billeder med pålidelig detaljegrad. Dette uendelig-korrigerede objektiv har et semi-planakromatisk design for forbedret feltfladhed og farvekorrigering.

ZEISS EC Epiplan 5x/0.13 M27-objektivet er en kontrastforbedret linse designet til tekniske mikroskopiapplikationer. Det giver 5x forstørrelse med en numerisk apertur på 0,13 og har en lang arbejdsafstand på 11,8 mm, hvilket muliggør nem håndtering af prøver og præcis fokusering. Dækglas-korrektion er ikke påkrævet. EC Epiplan-objektiver er universelle linser, der egner sig til lysfelt, differentiel interferenskontrast (DIC) og polarisations-teknikker.

ZEISS Objective EC Epiplan-Neofluar 2.5x/0.06 er en præcisionsoptisk komponent designet til brug i avancerede mikroskopiapplikationer. Den er konstrueret til at levere pålidelig billedkvalitet og nøjagtig forstørrelse, hvilket gør den velegnet til undervisnings- og universitetsmiljøer.

ZEISS Objective EC Epiplan-Neofluar POL 5x/0.13 er et mikroskopobjektiv af høj kvalitet, designet til præcis optisk ydeevne i uddannelses- og akademiske miljøer. Det er konstrueret med uendelighedskorrigeret optik for at sikre nøjagtig billedgengivelse og kompatibilitet med moderne mikroskopsystemer.

ZEISS EC Epiplan Achro 100x/0.8 tør mikroskopobjektiv er designet til højforstørrelsesanalyse af materialer og overflader. Det giver præcis billedgengivelse med uendelighedskorrigeret optik, hvilket gør det velegnet til avancerede laboratorie- og akademiske anvendelser.

ZEISS EC Epiplan Achro 100x/0.8 tør mikroskopobjektiv er designet til højforstørrelsesanalyse af materialer og overflader. Det giver præcis billedgengivelse med uendelighedskorrigeret optik, hvilket gør det velegnet til avancerede laboratorie- og akademiske anvendelser.

ZEISS Objective EC Plan-Neofluar 10x/0.3 er et præcisionsmikroskopobjektiv designet til klar, planfelt-billeddannelse i uddannelses- og akademiske laboratorier. Dets planoptiske korrektion sikrer høj billedkvalitet over hele synsfeltet, hvilket gør det velegnet til detaljeret observation af prøver.

ZEISS Objective EC Plan-Neofluar 2.5x/0.085 er et mikroskopobjektiv af høj kvalitet, designet til bredfeltobservation og præcis billedgengivelse. Med plankorrektion giver det et fladt og skarpt billede over hele synsfeltet.

ZEISS EC Plan-Neofluar 5x/0.16 mikroskopobjektivet er designet til at levere klare, planfelt-billeder til laboratorie- og undervisningsbrug. Dets planoptiske korrektion sikrer skarp billedkvalitet over hele synsfeltet, hvilket gør det velegnet til detaljeret observation af prøver.

ZEISS Objective EC Plan-Neofluar Ph1 10x/0.3 er et højtydende mikroskopobjektiv designet til fasekontrastapplikationer i laboratorie- og akademiske miljøer. Med plan korrektion leverer det skarpe og flade billeder over hele synsfeltet.

ZEISS EC Plan-Neofluar POL 10x/0.3 Pol mikroskopobjektiv er specielt designet til polariseret lysmikroskopi i laboratorie- og akademiske miljøer. Dets planoptiske korrektion sikrer et fladt og skarpt billede over hele synsfeltet, hvilket understøtter præcis analyse af prøver.