• Obiektyw Fuji XF 56 mm f/1,2 R
chevron_left chevron_right

Obiektyw Fuji XF 56 mm f/1,2 R

Idealny do portretowania, XF 56mm f/1.2 R firmy FUJIFILM to odpowiednik ogniskowej 85mm, wyróżniający się niezwykle jasnym maksymalnym otworem względnym f/1.2 do izolowania obiektów i pracy w warunkach słabego oświetlenia. Konstrukcja optyczna wykorzystuje zarówno elementy asferyczne, jak i elementy o bardzo niskiej dyspersji, które pomagają zredukować różnorodne aberracje, kolorowe obwódki i zniekształcenia w celu uzyskania wysokiej ostrości i wyrazistości.

1366.11 $
Z podatkiem VAT

1110.66 $ cena netto (non-EU countries)

Anatolij Liwaszewski
Menedżer produktu
Українська / Polski
+48721808900
+48721808900
Telegram +48721808900
[email protected]

Opis

Idealny do portretowania, XF 56mm f/1.2 R firmy FUJIFILM to odpowiednik ogniskowej 85mm, wyróżniający się niezwykle jasnym maksymalnym otworem względnym f/1.2 do izolowania obiektów i pracy w warunkach słabego oświetlenia. Konstrukcja optyczna wykorzystuje zarówno elementy asferyczne, jak i elementy o bardzo niskiej dyspersji, które pomagają zredukować różne aberracje, kolorowe obwódki i zniekształcenia w celu uzyskania wysokiej ostrości i wyrazistości. Powłoka Super EBC jest również stosowana w celu zmniejszenia odblasków i zjawy w celu poprawy kontrastu i dokładności kolorów w jasnych i podświetlonych warunkach. Ponadto ten obiektyw jest wyposażony w wewnętrzny mechanizm ogniskowania, który zapewnia szybkie ustawianie ostrości, a także zaokrągloną siedmiolistkową przysłonę, która zapewnia przyjemny efekt bokeh.

Podstawowy obiektyw portretowy jest przeznaczony do aparatów bezlusterkowych Fujifilm z mocowaniem X formatu APS-C i zapewnia ogniskową równoważną 85 mm.

Wyjątkowo jasny maksymalny otwór przysłony f/1,2 doskonale sprawdza się w warunkach słabego oświetlenia, a także zapewnia wyraźną kontrolę nad głębią ostrości podczas korzystania z technik selektywnego ustawiania ostrości.

Jeden dwustronny element asferyczny ogranicza zniekształcenia i aberrację sferyczną w celu uzyskania większej ostrości i dokładnego renderowania.

Dwa elementy o wyjątkowo niskiej dyspersji redukują kolorowe obwódki i aberracje chromatyczne, aby zapewnić większą wyrazistość i dokładność kolorów.

Powłoka Super EBC została nałożona na poszczególne elementy, aby zredukować odblaski i zjawy obiektywu, poprawiając kontrast i wierność kolorów podczas pracy w silnym oświetleniu.

Konstrukcja wewnętrznego ogniskowania zapewnia szybką i cichą pracę autofokusa, która jest korzystna zarówno dla zdjęć, jak i aplikacji wideo.

Zaokrąglona membrana z siedmioma ostrzami przyczynia się do przyjemnej jakości nieostrości, co korzystnie wpływa na wykorzystanie technik selektywnego ustawiania ostrości i płytkiej głębi ostrości.

Szczegóły techniczne

Ogniskowa 56 mm (odpowiednik ogniskowej 35 mm: 85 mm)

Maksymalna przysłona f/1,2

Minimalna przysłona f/16

Mocowanie obiektywu FUJIFILM X

Kompatybilność formatu APS-C

Kąt widzenia 28,5°

Minimalna odległość ostrzenia 2,3' / 70 cm

Maksymalne powiększenie 0,09x

Konstrukcja optyczna 11 elementów w 8 grupach

Łopatki membrany 7, zaokrąglone

Rodzaj ostrości Autofokus

Stabilizacja obrazu Brak

Rozmiar filtra 62 mm (przód)

Wymiary (średnica x dł.) 2,88 x 2,74" / 73,2 x 69,7 mm

Waga 14,29 uncji / 405 g

Opis

R8XSBBISZW