Mikroskop

ZEISS A-Plan 40x/0,65 D 0-objektivet är en plan-akromatisk lins utformad för detaljerad mikroskopisk observation. Den ger 40x förstoring med en numerisk apertur på 0,65, vilket ger skarpa, högkontrastbilder med pålitlig klarhet. Detta oändlighetskorrigerade objektiv har en plan (flat field)-design för att säkerställa konsekvent bildkvalitet över hela synfältet.

ZEISS A-Plan 40x/0,65 M27-objektivet är en högkontrast plan-akromatisk lins utformad för både rutin- och forskningsmikroskopi. Det ger 40x förstoring med en numerisk apertur på 0,65 och stödjer täckglasjustering från 0 till 1,00 mm. Arbetsavståndet är 0,45 mm. A-Plan-objektiv erbjuder ett utmärkt alternativ till Achroplan-linser och levererar skarpa, högkontrastbilder över ett synfältsnummer på upp till 23 mm.

ZEISS A-Plan 40x/0.65 Ph2-objektivet är en plan-akromatisk lins utformad för noggranna mikroskopiska observationer med Phase 2-kontrastkapacitet. Det ger 40x förstoring och en numerisk apertur på 0,65, vilket levererar skarpa, högkontrastbilder med förbättrad synlighet av transparenta prov. Detta oändlighetskorrigerade objektiv har en plan (flat field)-design för att säkerställa konsekvent bildkvalitet över hela synfältet.

ZEISS A-Plan 40x/0.65 Pol-objektivet är en plan-akromatisk lins utformad för detaljerad mikroskopisk observation, inklusive polariseringsapplikationer. Det ger 40x förstoring med en numerisk apertur på 0,65, vilket säkerställer skarp, högkontrast bildkvalitet. Detta oändlighetskorrigerade objektiv har en plan (flat field) design för jämn skärpa över hela synfältet.

ZEISS A-Plan 5x/0.12 M27-objektivet är en plan-akromatisk lins utformad för både rutin- och forskningsmikroskopi. Det ger 5x förstoring med en numerisk apertur på 0,12 och stöder täckglasjustering från 0 till 1,00 mm. Arbetsavståndet är 10,1 mm, vilket möjliggör bekväm hantering av preparat och enkel fokusering. A-Plan-objektiv erbjuder ett pålitligt alternativ till Achroplan-linser och levererar högkontrastbilder över ett synfältsnummer på upp till 23 mm.

ZEISS A-Plan 5x/0.12 Pol-objektivet är en plan-akromatisk lins utformad för mikroskopi med låg förstoring, inklusive polariseringsapplikationer. Det ger 5x förstoring med en numerisk apertur på 0,12, vilket säkerställer klar och jämnt fördelad bildkvalitet över hela synfältet. Detta oändlighetskorrigerade objektiv har en plan (flat field) design för konsekvent skärpa.

ZEISS A-Plan 63x/0.8 Pol-objektivet är en plan-akromatisk lins utformad för detaljerad mikroskopisk observation, inklusive polariseringsapplikationer. Det erbjuder 63x förstoring med en numerisk apertur på 0,80, vilket ger skarpa, högkontrastbilder med utmärkt upplösning. Detta oändlighetskorrigerade objektiv har en plan (flat field) design för att säkerställa konsekvent bildkvalitet över hela synfältet.

ZEISS A-Plan 63x/0.8-objektivet är en plan-akromatisk lins utvecklad för högupplöst mikroskopisk observation. Det ger 63x förstoring med en numerisk apertur på 0,80, vilket levererar skarpa, detaljerade bilder med utmärkt kontrast. Detta oändlighetskorrigerade objektiv har en plan (flat field)-design för att säkerställa en jämn bildkvalitet över hela synfältet.

ZEISS Antiflex Cap är speciellt utformad för EC Epiplan-Neofluar 1.25x/0.03-objektivet. Den hjälper till att minska oönskade reflektioner och ströljus, vilket förbättrar bildkontrasten och den övergripande optiska prestandan vid tekniska mikroskopiapplikationer.

ZEISS Antiflex Cap är utformad för användning med EC Epiplan-Neofluar 2.5x/0.06-objektivet. Den minimerar reflektioner och ströljus, vilket hjälper till att förbättra bildkontrasten och den övergripande optiska prestandan vid tekniska mikroskopiapplikationer.

ZEISS EC Epiplan 100x/0.85 HD-objektivet är en högupplöst lins utvecklad för krävande tekniska mikroskopiapplikationer. Det ger 100x förstoring med en numerisk apertur på 0,85, vilket säkerställer skarp, högkontrast bildkvalitet och utmärkt detaljåtergivning. Detta oändlighetskorrigerade objektiv har en semiplanakromatisk design för förbättrad planhet och färgkorrigering över synfältet.

ZEISS EC Epiplan 10x/0.25 HD-objektivet är en högupplöst lins utformad för teknisk och materialmikroskopi. Det ger 10x förstoring med en numerisk apertur på 0,25, vilket levererar skarpa, högkontrastbilder med tillförlitliga detaljer. Detta oändlighetskorrigerade objektiv har en semi-planakromatisk design för förbättrad fältjämnhet och färgkorrigering.

ZEISS EC Epiplan 10x/0,25 M27-objektivet är en kontrastförbättrad lins utvecklad för tekniska mikroskopiapplikationer. Det ger 10x förstoring med en numerisk apertur på 0,25 och erbjuder ett långt arbetsavstånd på 11,0 mm, vilket gör det särskilt lämpligt för materialtestning och inspektionsuppgifter. EC Epiplan-objektiv är universallinser utformade för ljusfält, differentialinterferenskontrast (DIC) och polarisationsmetoder.

ZEISS EC Epiplan 10x/0,25 Pol-objektivet är en kontrastförbättrad lins utformad för teknisk mikroskopi och polariseringsapplikationer. Det ger 10x förstoring med en numerisk apertur på 0,25, vilket levererar klara, högkontrastbilder med tillförlitliga detaljer. Detta oändlighetskorrigerade objektiv har en semi-planakromatisk design för förbättrad fältjämnhet och färgkorrigering.

ZEISS EC Epiplan 20x/0.4 HD-objektivet är en högupplöst lins utvecklad för teknisk och materialmikroskopi. Det ger 20x förstoring med en numerisk apertur på 0,40, vilket levererar skarpa, högkontrastbilder med utmärkt detaljåtergivning. Detta oändlighetskorrigerade objektiv har en semiplanakromatisk design för förbättrad fältjämnhet och färgkorrigering.

ZEISS EC Epiplan 20x/0.4 M27-objektivet är en kontrastförbättrad lins utvecklad för teknisk mikroskopi. Det ger 20x förstoring med en numerisk apertur på 0,4 och har ett arbetsavstånd på 3,2 mm, vilket möjliggör enkel åtkomst till provet och exakt fokusering. Korrigering för täckglas krävs inte. EC Epiplan-objektiv är universallinser utformade för ljusfält, differentialinterferenskontrast (DIC) och polarisationsmetoder.

ZEISS EC Epiplan 50x/0,75 HD-objektivet är en högupplöst lins utvecklad för teknisk och materialmikroskopi. Det ger 50x förstoring med en numerisk apertur på 0,75, vilket säkerställer skarpa, högkontrastbilder med utmärkt detaljupplösning. Detta oändlighetskorrigerade objektiv har en semi-planakromatisk design för förbättrad fältjämnhet och färgkorrigering.

ZEISS EC Epiplan 50x/0.75 M27-objektivet är en kontrastförbättrad lins utvecklad för teknisk mikroskopi. Det erbjuder 50x förstoring med en numerisk apertur på 0,75 och ett arbetsavstånd på 1,0 mm. Denna modell kräver ingen täckglasjustering och är avsedd för torr användning utan immersionsolja. EC Epiplan-objektiv är universella linser som passar för ljusfält, differentialinterferenskontrast (DIC) och polarisationsmetoder.

ZEISS EC Epiplan 50x/0,75 Pol-objektivet är en kontrastförbättrad lins utvecklad för teknisk mikroskopi och polarisationsapplikationer. Det ger 50x förstoring med en numerisk apertur på 0,75, vilket levererar skarpa, högkontrastbilder med utmärkt detaljrikedom. Detta oändlighetskorrigerade objektiv har en semiplanachromatisk design för förbättrad fältjämnhet och färgkorrigering.

ZEISS EC Epiplan 5x/0.13 HD-objektivet är en högupplöst lins utvecklad för teknisk och materialmikroskopi. Det erbjuder 5x förstoring med en numerisk apertur på 0,13, vilket ger tydliga, högkontrastbilder med tillförlitliga detaljer. Detta oändlighetskorrigerade objektiv har en semi-planakromatisk design för förbättrad fältjämnhet och färgkorrigering.

ZEISS EC Epiplan 5x/0.13 M27-objektivet är en kontrastförbättrad lins utformad för tekniska mikroskopiapplikationer. Det ger 5x förstoring med en numerisk apertur på 0,13 och har ett långt arbetsavstånd på 11,8 mm, vilket möjliggör smidig provhantering och exakt fokusering. Korrigering för täckglas krävs inte. EC Epiplan-objektiv är universella linser som passar för ljusfält, differentialinterferenskontrast (DIC) och polarisationsmetoder.

ZEISS-objektivet EC Epiplan-Neofluar 2.5x/0.06 är en precisionsoptisk komponent utformad för användning i avancerade mikroskopiapplikationer. Det är konstruerat för att leverera pålitlig bildkvalitet och exakt förstoring, vilket gör det lämpligt för utbildnings- och universitetsmiljöer.

ZEISS-objektivet EC Epiplan-Neofluar POL 5x/0.13 är ett högkvalitativt mikroskopobjektiv utformat för exakt optisk prestanda i utbildnings- och akademiska miljöer. Det är konstruerat med oändlighetskorrigerad optik för att säkerställa noggrann bildåtergivning och kompatibilitet med moderna mikroskopsystem.

ZEISS EC Epiplan Achro 100x/0.8 torr mikroskopobjektiv är utformat för högförstorande material- och ytanalyser. Det ger exakt bildåtergivning med oändlighetskorrigerad optik, vilket gör det lämpligt för avancerade laboratorie- och akademiska tillämpningar.